Einzelphotonen vom Siliziumchip

15. September 2020

Schematische Darstellung eines einzelnen Defekts in einem Siliziumwafer, der durch den gezielten Einbau von Kohlenstoffatomen entsteht und einzelne Photonen im Telekom-O-Band (Wellenlängenbereich: 1260 bis 1360 Nanometer) emittiert, die durch eine optische Glasfaser weitergeleitet werden.

Bild ©HZDR/Juniks: Schematische Darstellung eines einzelnen Defekts in einem Siliziumwafer, der durch den gezielten Einbau von Kohlenstoffatomen entsteht und einzelne Photonen im Telekom-O-Band (Wellenlängenbereich: 1260 bis 1360 Nanometer) emittiert, die durch eine optische Glasfaser weitergeleitet werden.